Elettrodo EAF HP UHP RP Grado

Diametri effettivi					Lunghezze effettive
Mm	Mm	Max	Min	Punto duro	Lunghezza	Tolleranza	Dimensione del righello
200	8	204	201	198	1600	±100	-275
250	10	256	252	248	1600 1800
300	12	307	303	299
350	14	357	353	347
400	16	409	404	400	1600 1800 2000
450	18	460	455	451
500	20	511	506	502
600	24	613	607	604
780	31.2	782	776	774	2000 2200 2400	±100	-400
800	32	802	796	794
870	34.8	872	866	862
900	36	902	896	892
920	36.8	922	916	912
960	38.4	962	956	952
1020	40.8	1022	1016	1012	2200 2600 2800
1060	42.4	1062	1056	1052
1100	44	1102	1092	1092
1146	45.8	1148	1140	1138
1197	47.9	1199	1191	1189
1250	50	1252	1244	1242
1272	50.9	1274	1266	1264
1305	54.4	1307	1299	1297
1321	52.8	1323	1315	1313
1400	56	1402	1394	1392

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In che modo le proprietà della grafite di carbonio influenzano le prestazioni degli elettrodi EAF RP, HP e UHP?

La struttura unica di Carbon Grafite - alta purezza, cristallinità direzionale e porosità controllata - è fondamentale per le prestazioni degli elettrodi RP, HP e UHP:

Purezza: Basso contenuto di cenere (<0.3% for UHP, <0.5% for HP, <1% for RP) minimizes impurities that react with oxygen at high temperatures (~3000°C), reducing oxidation and extending electrode life.

Cristallinità: Grafite altamente orientata (HOPG) negli elettrodi UHP riduce la resistività allineando gli atomi di carbonio, facilitando un flusso di corrente efficiente. Gli elettrodi HP utilizzano grafite moderatamente orientati, mentre gli elettrodi RP hanno più strutture casuali, aumentando la resistività.

Microstruttura: Elettrodi UHP Funzionalità densa, fine - matrici a grana con meno pori, migliorando la resistenza meccanica (maggiore o uguale a 18 MPa) e resistenza alle shock termiche. Gli elettrodi HP equilibrano la densità e la porosità per una resistenza moderata (14-16 MPa), mentre gli elettrodi RP hanno grani più grossolani e pori più grandi, riducendo la resistenza (12-14 MPa).

Queste proprietà della grafite in carbonio determinano direttamente l'efficienza elettrica, la durata e l'idoneità per ambienti EAF alti -.